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磁控溅射镀膜超窄带滤光片

磁控溅射镀膜超窄带滤光片

更新时间:2020-04-16

厂家性质:出产厂家

访问量:210

产品特点:溅射镀膜是在真空条件下,利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。溅射镀膜具有膜层和基体的附出力强,膜层均匀性好等优点,适合各种金属、氧化物、半导体薄膜的制备,广泛应用于光伏、LED、微电子、硬质薄膜等领域。$n656nm磁控溅射镀膜超窄带滤光片

产品详细资料:

656nm磁控溅射镀膜超窄带滤光片

 

溅射镀膜是在真空条件下,利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。溅射镀膜具有膜层和基体的附出力强,膜层均匀性好等优点,适合各种金属、氧化物、半导体薄膜的制备,广泛应用于光伏、LED、微电子、硬质薄膜等领域。

 

一般情况下,绝大大都超窄带滤光片,带宽<2nm成品率较低,价格也较高,2-5nm的带宽为绝大大都超窄带滤光片工业用户的批量采购抉择。

 

超窄带滤光片其主要参数有:中心波长、半高宽(带宽)、峰值透过率、截止范围、截止深度(OD值)

中心波长:一般就是仪器或设备的工作波长,它是指通带中心位置的波长。

半高宽(带宽):带宽是指通带中透过率为峰值透过率的一半的两个位置之间的距离,有时也叫半高宽(不叫半带宽),英文字母经常用FWHM(Full Width at Half Maximum)表示。

峰值透过率:指带通滤光片在通带中zui高的透过率大小。

截止范围:截止范围是指除了通带以外,要求截止的波长范围。对于窄带来说,有一段是前截止,就是截止波长小于中心波长的一段,还有一段长截止,截止波长高于中心波长的那一段。

截止深度(OD值):截止深度是指截止带中允许能透过光的最大透过率大小。对不同的应用系统对截止深度要求不同,比如对于使用在激发光荧光的场合,一般要求截止深度在T<0.001%以下,在普通的监控识别系统中,截止深度T<0.5%有时已经足够。为简便起见,经常用OD值来表示截止深度。OD=-lgT

用途:机器视觉、生化阐发、光学仪器、光谱测量等领域

 

类型:一般瑞研光学可做200nm-2000nm以内的任意个波长,透过率大于70%以上,如果是磁控溅射镀膜,透过率大于90%;

截止深度有OD4-OD6;大于OD6成品率较低,可提供小批量定制服务

中心波长656nm

中心波长偏差:±1nm

带宽2nm;3nm;4nm;5nm

直径12.7mm,12.5mm,25mm,30mm

厚度1mm2mm2.5mm

外环封装厚度3.5mm,5mm,6mm

透过率大于80%大于90%

截止范围200-800nm;200-1000nm200-1200nm

截止深度大于OD4大于OD5;>OD6

典型超窄带光谱曲线


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